  |
Za poslednú hodinu: 14 meraní | ||||
|
inzercia |
|||||
 
neprihlásený 
| Sobota, 8. novembra 2025, dnes má meniny Bohumír |
|
TSMC ohlásil 6-nm výrobný proces
čipy
6-nm výrobný proces podľa spoločnosti umožňuje dosahovať o 18% vyššiu hustotu prvkov na čipoch, pričom je naň možné jednoducho migrovať čipy určené pre výrobu doterajším 7-nm procesom. Aký dopad na výkon a spotrebu bude mať nový proces spoločnosť explicitne neinformuje. TSMC u prvej generácie 7-nm procesu používa ešte litografiu, leptanie maskou presvecovanou laserom, s vlnovou dĺžkou 193 nm. U 6-nm procesu už avizuje použitie EUV, Extreme UltraViolet, litografie. Pri EUV sa používa laser s vlnovou dĺžkou len 13.5 nm. TSMC zároveň pripravuje druhú generáciu 7-nm procesu, ktorá už bude využívať EUV litografiu. Týmto výrobným procesom už realizuje prvotnú výrobu. V prípade 6-nm procesu avizuje spustenie prvotnej výroby v prvom štvrťroku 2020, kedy by mala byť spustená masová výroba čipov týmto procesom nie je jasné. TSMC má zároveň už vyvinutý aj 5-nm výrobný proces s ešte výrazne lepšími parametrami. TSMC v súčasnosti patrí podľa výrobných procesov k špičke technológie výroby čipov spolu so Samsungom, ktorý tento rok odštartoval masovú výrobu 7-nm EUV výrobným procesom a tento týždeň avizoval dokončenie vývoja 5-nm procesu a stručne bez bližších detailov tiež avizoval nový 6-nm výrobný proces, ktorým odštartoval výrobu prvých vzoriek. Najnovšie články: Diskusia:
Pridať komentár | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
|
| ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
